提供接觸角測(cè)量?jī)x、大氣等離子清洗機(jī)、真空等離子清洗機(jī)、寬幅等離子清洗機(jī)、微波等離子清洗機(jī)、USC干式超聲波除塵清洗機(jī)、離子靜電消除裝置等一站式服務(wù)設(shè)備
針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)涉及的PLASMA處理及性能檢測(cè)整體解決方案
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可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔
可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除
可BAW/SAW工藝中的光阻去除,配備單腔雙腔兩種類型
專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的微波在線片式真空等離子清洗機(jī),針對(duì)半導(dǎo)體芯?粘接前處理、塑封前處理、光刻膠去除、?屬鍵合前處理。等離子體不帶電,不對(duì)精密電路造成損害,采用磁約束方式,可兼容微波結(jié)和磁路。
自由基分子的等離子體無(wú)偏壓,不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞,去膠速率高