RPS遠(yuǎn)程等離子源是基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，利用原子的高活性強(qiáng)氧化特性，達(dá)到清洗CVD或其他腔室后生產(chǎn)工藝的目的。

等離子去膠機(jī)是一種利用高能等離子體去除材料表面有機(jī)污染物和光刻膠的先進(jìn)設(shè)備。晟鼎半導(dǎo)體作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的表面處理解決方案提供商，研發(fā)的等離子去膠機(jī)系列產(chǎn)品憑借其卓越性能和穩(wěn)定性，已成為半導(dǎo)體、微電子和光電顯示等行業(yè)的關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備。

在點(diǎn)膠裝片前，基板上如果存在污染物，銀膠容易形成圓球狀，降低芯片粘結(jié)度。因此，在DB工藝前，需要進(jìn)行等離子處理，提高基板表面的親水性和粗糙度，有利于銀膠的平鋪及芯片粘貼，提高封裝的可靠性和耐久性。在提升點(diǎn)膠質(zhì)量的同時(shí)可以節(jié)省銀膠使用量，降低成本。

社會(huì)文明的高速發(fā)展，智能通訊為人類文明中不容忽視的板塊，因此硅光子產(chǎn)業(yè)近年飛速崛起。5G通信、人工智能、元宇宙等新技術(shù)的涌現(xiàn)使得光通信行業(yè)快速發(fā)展。光模塊作為光通信設(shè)備中完成光電轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵組件，與服務(wù)器暴增的算力和數(shù)據(jù)交互直接配套。因此，能夠滿足高速數(shù)據(jù)傳輸、海量數(shù)據(jù)處理等要求的高性能光模塊產(chǎn)品成為數(shù)字化發(fā)展關(guān)鍵基礎(chǔ)。

RPS遠(yuǎn)程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級(jí)別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用下，原材料氣體會(huì)被解離，從而釋放出自由基，活性離子進(jìn)入工藝室與工藝室上沉積的污染材料（SIO/SIN）或者殘余氣體（H2O、O2、H2、N2）等物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，聚合為高活性氣態(tài)分子經(jīng)過真空泵組抽出處理腔室，提高處理腔室內(nèi)部潔凈度

在現(xiàn)代電子制造過程中，印制電路板組件（PCBA）的質(zhì)量直接影響著最終產(chǎn)品的可靠性和性能。而在PCBA加工過程中，焊膏粘附不良是一個(gè)常見的問題，它可能導(dǎo)致焊接缺陷、接觸不良甚至產(chǎn)品失效。大氣等離子清洗機(jī)作為一種新型的表面處理設(shè)備，為解決PCBA焊膏粘附不良問題提供了高效、環(huán)保的解決方案。